国产电子束光刻机突破国际封锁 助力量子芯片研发迎新机
2025-08-18

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光刻机
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国产首台商业化电子束光刻机“羲之”在浙大校友企业总部经济园启动测试,精度达0.6纳米,线宽8纳米,打破国际技术封锁,助力量子芯片研发。该设备由浙大量子研究院自主研发,已吸引华为海思等企业及科研机构接洽,市场前景广阔。其无需掩膜版、灵活修改设计的特点,解决了国内量子芯片领域长期依赖进口设备的困境,标志着我国高端半导体装备国产化取得重大突破。


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