中科院突破DUV光源助力光刻机国产化
2025-03-26

光
光刻机
弱中性
加自选
中科院团队成功研发193nm全固态DUV激光光源技术,可支持3nm半导体工艺,对比传统气体激光方案具有体积小、能耗低优势,但功率和频率暂不达标;中国光刻机市场需求旺盛,政策持续加码,ASML上半年对华销售额激增142%。
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